【快速退火爐】（RapidThermalProcessing簡稱RTP）這是一種在短時間內對設備進行高溫加熱和冷卻的技術。
快速退火爐的原理是應用高功率的激光或者電阻加熱使試品快速升溫到所需的溫度，隨后通過調節升溫時間和冷卻速率，使試品在高溫下保持足夠的時間，并立即冷卻到室溫。這一類高速加熱和冷卻的環節可以有效地改善材料的特性。
【快速退火爐】的用途廣泛，包括以下幾個方面：
1.材料改性-通過快速退火爐能改變材料晶體結構和相變行為，從而改變其電學、光學、磁學等性能。比如說，可以通過快速退火爐來提升晶體的結晶度和晶粒尺寸，提高材料導電性能。
2.薄膜沉積-快速退火爐可以用于熱化學氣相沉積（CVD）和物理氣相沉積（PVD）等薄膜沉積技術的后處理。通過快速退火，能提高薄膜的結晶度和致密性，改善薄膜的生長質量。
3.制取納米材料-快速退火爐可以用于制取納米材料。通過調節快速退火時間和溫度，也可以在材料上產生納米顆粒或納米結構，從而改變材料的光學、電學等性質。
4.半導體器件制取-快速退火爐在半導體器件制取中具有重要應用。它可以用作離子注入后材料去損傷和結構修補，以及材料活化和晶體的再配向等。
【快速退火爐】技術在材料科學和半導體工藝等領域具有關鍵實用價值，能改變材料的性質和性能，并為新材料的開發與器件制取提供強有力的支持。
