RTD Wafer晶圓測溫系統
RTD Wafer 晶圓測溫系統利用自主研發的核心技術將 RTD 傳感器集成到 晶圓表面，實時監控和記錄晶圓在制程過程中的溫度變化數據，為半導體 制造過程提供一種高效可靠的方式來監測和優化關鍵的工藝參數。
【應用范圍】
光刻、涂膠顯影 TRACK 設備、原子層沉積 (ALD)、探針臺測溫、高精度加熱盤
【產品優勢】
1. ±0.05℃高精度測溫監測：RTD傳感器能夠提供高精度的溫度讀數，確保半導體制造過程中的關鍵步驟能夠在最佳溫度下進行，從而保證產品質量至關重要。
2. 實時測溫數據獲取：通過RTD Wafer，可以實時監測晶圓在熱處理和刻蝕過程中的溫度變化，實現即時調整工藝參數，優化生產效率。
3. 測溫數據分析能力：測量后的數據通過軟件分析和優化工藝參數，提高產量和產品質量。
4.支持過程調整與驗證：通過分析在產品工藝條件下收集的溫度數據實現調整蝕刻和其他關鍵工藝步驟的條件，以確保最佳性能。
5. 全面熱分布區監測：在晶圓上支持多達81個位置同時進行溫度監測，從而獲得全面的熱分布圖。
【參數配置】
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