快速退火爐主要是用于快速熱處理、熱氧化處理、高溫退火的設備，采用先進微電腦控制系統，使用PID閉環控制溫度，能夠達到極高的控溫精度和溫度均勻性，并目可配置真空腔體，也可根據用戶工藝需求配置多路氣體。
【快速退火爐】基本功能及特點:
1、可視化7寸觸摸屏，設定數據和操作是圖文界面，操作簡便
2、爐體配備高精度移動平臺，運行穩定無抖動。
3、爐管可自由移動，且密封法蘭間用搭扣壓緊連接，放、取物料方便快捷，防止了螺栓密封人為操作導致漏氣的可能、降低了因安裝法蘭而造成加熱管破損的可能、當爐管移出爐膛時冷確風扇啟動，可以實現試樣的迅速降濕，達到材料聚冷警熱的實驗要求。
4、爐瞠采用先進的多晶纖維真空吸附制成，采用先進的紅外線加熱管加熱，使用壽命可達5000小時，升溫時間快，最高溫度可達1050°C
5、預留真空、氣路快速接口，可配合我公司設備、 系統使用。
6、預留485轉換接口，可以通過我公司專用軟件，與計算機互聯，可以實現單臺或者多臺電爐的遠程控制、實時追蹤、歷史記錄、輸出報表等多項功能。
7、設置超溫報警并斷電，漏電保護，操作安全靠譜
【快速退火爐】的應用范圍介紹
了解到了快速退火爐功能和特性后，再看一下快速退火爐的應用范圍介紹吧!
1、快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO，快速熱化(RTN)。
2、離子注入/接觸退火。
3、金屬合金。
4、熱氧化處理
5、化合物合金（砷化家、氨化物等）。
6、多晶硅退火。
7、太陽能電池片退火。
8、高溫退火。
9、高溫擴散。
【快速退火爐】
廣東瑞樂科技專注于高精度溫測、溫控設備的生產和研發定做，為半導體行業提供科學的國產解決方法，更多有關TC Wafer?晶圓測溫系統資訊請關注瑞樂官網。
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